碳基材料在高温极端环境中的应用长期受限于氧化与热冲击失效。来自武汉理工大学及合作者的研究团队近日报道了一种基于激光化学气相沉积（LCVD）的高效制备工艺，能在石墨基···

参训团队聚焦五氯化钽、五氯化铌、五氯化钼、四氯化铪等氯化物的生产车间、产品储存区等实际场景进行了讨论，真正实现 “学思用结合、知信行统一”。

近日，《硅酸盐学报》2025年第3期刊登了南昌航空大学与国防科技大学联合团队的研究综述《C/C复合材料高温抗氧化陶瓷防护涂层的研究进展与展望》。该文章系统总结了碳/碳（C···

为什么半导体工艺需要新材料？ 随着芯片制程进入2nm时代（相当于头发丝的万分之一粗细），传统金属导线材料——钨（W）和铜（Cu）遇到了致命瓶颈： • 钨：沉积时会释放氟（···

【导语】随着半导体工艺向3nm以下节点迈进，传统铜互连技术因电阻率攀升与电迁移问题面临严峻挑战。全球半导体设备巨头Lam Research早前宣布推出全球首款钼（Mo）原子层沉积···