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(转载)钨时代终结!全球首台钼原子层沉积设备亮相,2nm芯片成本直降30%

(转载)钨时代终结!全球首台钼原子层沉积设备亮相,2nm芯片成本直降30%

本文全文转载自百度,阅读原文,请点击:https://baijiahao.baidu.com/s?id=1832458136184423262&source=ucbrowser2025年5月17日,全球最大半导体设备商泛林集团(Lam ···
2025-12-1282
二氯二氧化钼(MoO₂Cl₂):半导体2nm制程背后的关键“魔法粉末”

二氯二氧化钼(MoO₂Cl₂):半导体2nm制程背后的关键“魔法粉末”

为什么半导体工艺需要新材料? 随着芯片制程进入2nm时代(相当于头发丝的万分之一粗细),传统金属导线材料——钨(W)和铜(Cu)遇到了致命瓶颈: • 钨:沉积时会释放氟(···
2025-08-26152
在法治轨道上完善危险化学品全链条安全治理机制——《中华人民共和国危险化学品安全法》解读(转自“中国应急”)

在法治轨道上完善危险化学品全链条安全治理机制——《中华人民共和国危险化学品安全法》解读(转自“中国应急”)

2025年12月27日,第十四届全国人大常委会第十九次会议审议通过了《中华人民共和国危险化学品安全法》(以下简称《危险化学品安全法》),将于2026年5月1日起施行。这是我国···
2026-03-1318
(下篇)用 NbCl5 实现从氧化物到金属的可控气相刻蚀——两项工作揭示了原子层与脉冲蚀刻的新路径

(下篇)用 NbCl5 实现从氧化物到金属的可控气相刻蚀——两项工作揭示了原子层与脉冲蚀刻的新路径

书接上篇(http://www.cnyjxc.com/list_11/138.html)近期两篇由相近作者团队发表的论文,分别发表于Journal of Materials Chemistry C和Chemistry of Materials,展示了以···
2025-12-0557
(上篇)用 NbCl5 实现从氧化物到金属的可控气相刻蚀——两项工作揭示了原子层与脉冲蚀刻的新路径

(上篇)用 NbCl5 实现从氧化物到金属的可控气相刻蚀——两项工作揭示了原子层与脉冲蚀刻的新路径

近期两篇由相近作者团队发表的论文,分别发表于Journal of Materials Chemistry C和Chemistry of Materials,展示了以五氯化铌(NbCl5)为关键试剂的两种气相刻蚀策略。它们···
2025-12-0263
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