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(转载)钨时代终结!全球首台钼原子层沉积设备亮相,2nm芯片成本直降30%

(转载)钨时代终结!全球首台钼原子层沉积设备亮相,2nm芯片成本直降30%

本文全文转载自百度,阅读原文,请点击:https://baijiahao.baidu.com/s?id=1832458136184423262&source=ucbrowser2025年5月17日,全球最大半导体设备商泛林集团(Lam ···
2025-12-1218
(下篇)用 NbCl5 实现从氧化物到金属的可控气相刻蚀——两项工作揭示了原子层与脉冲蚀刻的新路径

(下篇)用 NbCl5 实现从氧化物到金属的可控气相刻蚀——两项工作揭示了原子层与脉冲蚀刻的新路径

书接上篇(http://www.cnyjxc.com/list_11/138.html)近期两篇由相近作者团队发表的论文,分别发表于Journal of Materials Chemistry C和Chemistry of Materials,展示了以···
2025-12-0521
(上篇)用 NbCl5 实现从氧化物到金属的可控气相刻蚀——两项工作揭示了原子层与脉冲蚀刻的新路径

(上篇)用 NbCl5 实现从氧化物到金属的可控气相刻蚀——两项工作揭示了原子层与脉冲蚀刻的新路径

近期两篇由相近作者团队发表的论文,分别发表于Journal of Materials Chemistry C和Chemistry of Materials,展示了以五氯化铌(NbCl5)为关键试剂的两种气相刻蚀策略。它们···
2025-12-0227
TaCl5作为前驱体的激光沉积法:快速制备孔状TaC涂层并改善热兼容性

TaCl5作为前驱体的激光沉积法:快速制备孔状TaC涂层并改善热兼容性

碳基材料在高温极端环境中的应用长期受限于氧化与热冲击失效。来自武汉理工大学及合作者的研究团队近日报道了一种基于激光化学气相沉积(LCVD)的高效制备工艺,能在石墨基···
2025-11-1323
碳/碳(C/C) 复合材料高温抗氧化陶瓷防护涂层的研究进展与展望

碳/碳(C/C) 复合材料高温抗氧化陶瓷防护涂层的研究进展与展望

近日,《硅酸盐学报》2025年第3期刊登了南昌航空大学与国防科技大学联合团队的研究综述《C/C复合材料高温抗氧化陶瓷防护涂层的研究进展与展望》。该文章系统总结了碳/碳(C···
2025-08-29120
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