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TaCl5作为前驱体的激光沉积法:快速制备孔状TaC涂层并改善热兼容性

TaCl5作为前驱体的激光沉积法:快速制备孔状TaC涂层并改善热兼容性

碳基材料在高温极端环境中的应用长期受限于氧化与热冲击失效。来自武汉理工大学及合作者的研究团队近日报道了一种基于激光化学气相沉积(LCVD)的高效制备工艺,能在石墨基···
2025-11-138
碳/碳(C/C) 复合材料高温抗氧化陶瓷防护涂层的研究进展与展望

碳/碳(C/C) 复合材料高温抗氧化陶瓷防护涂层的研究进展与展望

近日,《硅酸盐学报》2025年第3期刊登了南昌航空大学与国防科技大学联合团队的研究综述《C/C复合材料高温抗氧化陶瓷防护涂层的研究进展与展望》。该文章系统总结了碳/碳(C···
2025-08-29108
二氯二氧化钼(MoO₂Cl₂):半导体2nm制程背后的关键“魔法粉末”

二氯二氧化钼(MoO₂Cl₂):半导体2nm制程背后的关键“魔法粉末”

为什么半导体工艺需要新材料? 随着芯片制程进入2nm时代(相当于头发丝的万分之一粗细),传统金属导线材料——钨(W)和铜(Cu)遇到了致命瓶颈: • 钨:沉积时会释放氟(···
2025-08-2696
行业动态|新型钼基材料助力半导体微缩化革命:高纯度钼前驱体引领ALD技术突破

行业动态|新型钼基材料助力半导体微缩化革命:高纯度钼前驱体引领ALD技术突破

【导语】随着半导体工艺向3nm以下节点迈进,传统铜互连技术因电阻率攀升与电迁移问题面临严峻挑战。全球半导体设备巨头Lam Research早前宣布推出全球首款钼(Mo)原子层沉积···
2025-08-08154
激光化学气相沉积技术成功制备高性能多孔碳化钽涂层

激光化学气相沉积技术成功制备高性能多孔碳化钽涂层

碳材料(如石墨和碳/碳复合材料)因其优异的高温稳定性和机械性能,被广泛应用于航空航天、能源存储等领域。然而,碳材料在370°C以上易氧化失效,超高温环境下抗侵蚀性差,···
2025-08-05101
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